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| PVD鍍膜設備是怎樣工作的？ |
| 發布時間：2024-12-09 瀏覽： 次 |
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PVD鍍膜設備的工作原理基於物理氣相沉積(PVD)技術，主要通過以下步驟實現薄膜的沉積： 真空環境的創建：首先，設備需要在高真空環境下工作，以減少空氣分子對蒸發或濺射出的膜體分子的碰撞，確保結晶體細密光亮。高真空環境通過機械泵、羅茨泵和擴散泵或分子泵等設備實現。 膜體材料的釋放：膜體材料(如金屬、合金、化合物等)通過加熱蒸發或濺射的方式被釋放出來。蒸發過程是通過電阻加熱或電子束加熱使膜體材料蒸發成氣態分子;濺射過程則是利用高能粒子(如氬離子)轟擊靶材，使靶材原子或分子被濺射出來。 分子的沉積：蒸發或濺射出的膜體分子在真空室內自由飛行，最終沉積在基材表麵。在沉積過程中，分子會經曆吸附、擴散、凝結等階段，形成一層或多層薄膜。 鍍膜完成後的冷卻：鍍膜完成後，需要對設備進行冷卻，使薄膜在基材上固化。這一過程有助於增強薄膜與基材的結合力，提高薄膜的穩定性和耐久性。 本文由91蜜桃视频在线播放機廠家水蜜桃少妇真空收集整理自網絡，僅供學習和參考! |
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